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介紹真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜方法

  所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi),真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜采用對應方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
  多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優(yōu)點,可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
  真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜工藝不但避免了傳統(tǒng)表面處理的不足,且各項技術指標不錯,在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有很廣應用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比,在技術上有哪些改進?
  1、多弧離子鍍膜不用電、節(jié)省了成本、成本為多弧離子鍍膜鎳的二分之一,真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜鉻的三分之一,不銹鋼的四分之一,可反復利用,大大節(jié)省了成本。
  2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”,需要再加工時不經(jīng)處理。
2021/09/17 10:38:33 2431 次